俄罗斯宣布自研比 ASML 更便宜更易制造的 EUV 光刻机
俄罗斯联邦已公布自主开发 EUV 光刻机的路线图，目标是比 ASML 的光刻机更便宜、更容易制造。这些设备将采用11.2纳米的激光光源，而非 ASML 标准的13.5纳米。这种波长将与现有的 EUV 设备不兼容，需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统，这可能需要十年或更长时间。
该项目计划由俄罗斯科学院微结构物理研究所的尼古拉·奇卡洛领导，目的是制造性能具竞争力且具成本优势的 EUV 光刻机，以对抗 ASML 的设备。奇卡洛表示，11.2纳米波长的分辨率提高了20%，可以提供更精细的细节，同时简化设计并降低光学元件的成本。
—— Tom’s Hardware
中国工信部推广国产DUV光刻机：套刻≤8nm
近日，中国工信部发布《首台 (套) 重大技术装备推广应用指导目录 (2024年版) 》。而就在电子专用装备目录下，集成电路设备方面出现了氟化氩光刻机和氟化氪光刻机，这两者均属于DUV光刻机。
其中氟化氩光刻机显示为分辨率≤65nm、套刻≤8nm；氟化氪则显示分辨率≤110nm、套刻≤25nm。套刻精度为“多重曝光能达到的最高精度”，按套刻精度与量产工艺约1：3的关系，这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片，大致相当于20年前ASML的1460K。
—— 新浪新闻、工信部
中国对荷兰扩大光刻机管制范围表达不满
中国商务部9月8日表示，荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上，进一步扩大对光刻机的管制范围，中国对此表示不满。近年来，美国为维护自身全球霸权，不断泛化国家安全概念，胁迫个别国家加严半导体及设备出口管制措施，严重威胁全球半导体产业链供应链稳定，严重损害相关国家和企业正当权益，中方对此坚决反对。荷方应从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发，尊重市场原则和契约精神，避免有关措施阻碍两国半导体行业正常合作和发展，不滥用出口管制措施，切实维护中荷企业和双方共同利益，维护全球半导体产业链供应链稳定。
—— 中国商务部
荷兰对部分阿斯麦光刻机实施出口管制
荷兰政府周五宣布扩大对先进半导体制造设备的出口管制措施，即从9月7日起，更多类型的半导体制造设备将受到国家授权要求的限制。这一措施规定，从现在起，公司在出口此类先进制造设备时必须申请授权。
根据更新的许可证要求，阿斯麦将需要向荷兰政府而不是美国政府申请 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 浸没式 DUV 光刻机的出口许可证。TWINSCAN NXT:2000i 及其后的浸没式 DUV 系统已经有了荷兰出口许可证要求。阿斯麦 EUV 系统的销售也受许可证要求的限制。
—— 彭博社、界面新闻、荷兰政府
俄罗斯完成制造首台 350 纳米制程的光刻机
俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试，俄罗斯联邦工业和贸易部副部长 Vasily Shpak 指出，该设备可支持生产最终到达350纳米工艺的芯片。 Shpak 告诉媒体：“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。
—— 塔斯社
美国要求荷兰停止对华出口某型号光刻机？外交部：中方将密切关注有关动向
1月2日，外交部发言人汪文斌主持例行记者会。彭博社记者提问，据报道，美国已经要求荷兰光刻机制造商阿斯麦停止向中国出口某种型号的光刻机，该项“禁令”将于本月生效，请问中方对此有何评论？
汪文斌回应，我们注意到有关的报道，中方一贯反对美国泛化国家安全概念，以各种借口胁迫其他国家搞对华科技封锁。半导体是高度全球化的产业，在各国经济深度融合的背景下，美方有关霸道、霸凌行径严重违背国际贸易规则，严重破坏全球半导体产业格局，严重冲击国际产业链供应链的安全和稳定，必将自食其果。
汪文斌表示，我们敦促荷方，秉持客观公正立场和市场原则，尊重契约精神，以实际行动维护中荷两国和双方企业的共同利益，维护国际产业链供应链的稳定和自由、开放、公正、非歧视的国际贸易环境。中方将密切关注有关动向，坚决维护自身合法权益。
—— 澎湃新闻
应美国政府要求，荷兰光刻机制造商取消了向中国发货的部分订单
知情人士称，应美国拜登政府要求，在高端芯片制造设备出口禁令生效前数周，阿斯麦控股公司取消了向中国的部分光刻机订单。
在荷兰新限制措施 1 月全面生效前，这家荷兰制造商获得了向中国公司运送三台顶级深紫外光刻机的许可，然而，据知情人士透露，美国官员联系阿斯麦要求他们立即停止预先计划向中国客户运送的部分光刻机。由于讨论是保密的，因此要求不具名。
—— 彭博社、日本时报
中国28nm国产光刻机有望年底交付
据新华网援引《证券日报》消息称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。
光刻机是决定半导体生产工艺水平高低的核心技术，包含光学系统、微电子系统、计算机系统、精密机械系统、控制系统等构件，极为复杂精密。
事实上，光刻机是一个泛概念，包括三种不同类型：为前道光刻机、后道光刻机、面板光刻机。
前道光刻机就是我们最常说的光刻机，主要用于晶圆制造，可分为DUV、EUV两大类，目前由荷兰阿斯麦(ASML)占绝对垄断地位，日本的尼康、佳能也有很强的实力。
—— 快科技