英特尔称新的阿斯麦光刻机已投入生产
英特尔公司周一称，来自阿斯麦的首批两台尖端光刻机已经在其工厂 “投入生产”。初步数据显示比之前的型号更可靠。这两台光刻机是阿斯麦的高数值孔径 (High-NA) 极紫外光刻机，是目前世界上最先进的光刻机，能够比之前的阿斯麦光刻机生产出更小、更快的计算芯片。去年英特尔成为了全球首家接收这些光刻机的芯片制造商。英特尔高级首席工程师史蒂夫·卡尔森表示，英特尔已利用阿斯麦的高数值孔径光刻机在一个季度内生产了三万片晶圆，这些晶圆可以产出数千颗计算芯片。在初步测试中，阿斯麦新光刻机的可靠性是此前型号的大约两倍。
—— 路透社
首席财务官称中国光刻机落后阿斯麦多年
荷兰阿斯麦控股公司的首席财务表示，中国需要数年时间才能赶上该公司的芯片制造技术。“永远不要说永不，”首席财务官罗杰·达森在位于荷兰费尔德霍芬的公司总部接受采访时表示，并补充说阿斯麦远远领先于中国竞争对手。“我们的技术非常先进，我们花了很多年才达到今天的水平。”尽管美国试图通过出口管制来抑制北京的雄心，但中国企业却屡屡取得令观察人士惊讶的技术飞跃。然而，中国在制造最先进芯片及其所需设备的能力方面仍然落后。阿斯麦垄断了光刻机市场，这些光刻机帮助全球最大的半导体公司生产先进的芯片，为从苹果的智能手机到英伟达的人工智能加速器等产品提供动力。
—— 彭博社
荷兰对部分阿斯麦光刻机实施出口管制
荷兰政府周五宣布扩大对先进半导体制造设备的出口管制措施，即从9月7日起，更多类型的半导体制造设备将受到国家授权要求的限制。这一措施规定，从现在起，公司在出口此类先进制造设备时必须申请授权。
根据更新的许可证要求，阿斯麦将需要向荷兰政府而不是美国政府申请 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 浸没式 DUV 光刻机的出口许可证。TWINSCAN NXT:2000i 及其后的浸没式 DUV 系统已经有了荷兰出口许可证要求。阿斯麦 EUV 系统的销售也受许可证要求的限制。
—— 彭博社、界面新闻、荷兰政府
俄罗斯完成制造首台 350 纳米制程的光刻机
俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试，俄罗斯联邦工业和贸易部副部长 Vasily Shpak 指出，该设备可支持生产最终到达350纳米工艺的芯片。 Shpak 告诉媒体：“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。
—— 塔斯社
应美国政府要求，荷兰光刻机制造商取消了向中国发货的部分订单
知情人士称，应美国拜登政府要求，在高端芯片制造设备出口禁令生效前数周，阿斯麦控股公司取消了向中国的部分光刻机订单。
在荷兰新限制措施 1 月全面生效前，这家荷兰制造商获得了向中国公司运送三台顶级深紫外光刻机的许可，然而，据知情人士透露，美国官员联系阿斯麦要求他们立即停止预先计划向中国客户运送的部分光刻机。由于讨论是保密的，因此要求不具名。
—— 彭博社、日本时报