中国28nm国产光刻机有望年底交付
据新华网援引《证券日报》消息称,上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破,预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。
光刻机是决定半导体生产工艺水平高低的核心技术,包含光学系统、微电子系统、计算机系统、精密机械系统、控制系统等构件,极为复杂精密。
事实上,光刻机是一个泛概念,包括三种不同类型:为前道光刻机、后道光刻机、面板光刻机。
前道光刻机就是我们最常说的光刻机,主要用于晶圆制造,可分为DUV、EUV两大类,目前由荷兰阿斯麦(ASML)占绝对垄断地位,日本的尼康、佳能也有很强的实力。
—— 快科技