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  • 佳能推出记录性高像素数35mm全画幅相机

    佳能推出刷新纪录的 4.1 亿像素 35mm 全画幅相机传感器

    佳能公司1月22日宣布,已开发出一款 4.1 亿像素 CMOS 传感器,这是世界上 35mm 全画幅传感器中像素数量最多的传感器。其分辨率是 24,592 x 16,704 像素,相当于 24K,或者是 8K 分辨率的 12 倍和 1080P 分辨率的 198 倍。该传感器有望用于监控、医疗和工业等各种市场中需要极高分辨率的应用。

    得益于“重新设计的电路模式”和新开发的“背照式堆叠结构”,该传感器能够实现每秒 32.8 亿像素的超高读取速度,以每秒8帧的速度传输全分辨率视频。该传感器还具有“四像素合并”功能,可将四个相邻像素虚拟为一个像素,从而提高感光度。使用此功能时,传感器可以以每秒 24 帧的速度捕捉 1 亿像素的视频。

    —— 佳能

  • 佳能全球首套交付用于半导体制造的纳米压印光刻系统

    佳能全球首套交付用于半导体制造的纳米压印光刻系统

    佳能公司宣布,于 2024 年 9 月 26 日向位于德克萨斯州的半导体联盟德克萨斯电子研究所 (TIE) 交付全球用于半导体制造的 FPA-1200NZ2C 商用纳米压印光刻 (NIL) 系统。新系统降低了功耗和成本,仅为当前紫外光刻系统的 1/10,并能够以最小线宽 14 nm 进行图案化,相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的 5 nm 节点。

    与传统的光刻设备通过将电路图案投影到涂有抗蚀剂的晶圆上来转移电路图案不同,纳米压印是像印章一样将印有电路图案的掩模压入晶圆上的抗蚀剂中。由于其电路图案转移过程不经过光学机制,因此掩模上的精细电路图案可以精确再现到晶圆上。这条芯片制造路线的开发从2014年启动研发,去年十月开始,佳能与铠侠、大日本印刷合作开始销售这款设备,计划在未来3-5年内,每年销售10-20台此类设备。

    —— 佳能